专利库
专利名称: 一种降低电离层不规则体对精密单点定位影响的方法
申 请 号: CN202310188617.X
申请日期: 2023.03.02
专利授权日期:
第一发明人: 李伟
全部发明人: 李伟; 宋淑丽
专利类别: 发明